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溅射靶材检测

溅射靶材检测简介

发布时间:2025-05-10 05:56:28

更新时间:2025-07-02 08:00:30

咨询点击量:83

发布来源:其他检测中心

第三方溅射靶材检测机构北京中科光析科学技术研究所科研分析检测中心在溅射靶材检测领域拥有多年检测经验。可进行金属溅射靶材、氧化物溅射靶材、氮化物溅射靶材、碳化物溅射靶材、硅化物溅射靶材、钼溅射靶材、铝溅射靶材、钨溅射靶材、铜溅射靶材、锌溅射靶材、锡溅射靶材、铁溅射靶材、钛溅射靶材、镍溅射靶材、铬溅射靶材、银溅射靶材、锆溅射靶材、钯溅射靶材、铂溅射靶材、铑溅射靶材等等溅射靶材检测,作为综合性研究所,拥有相关检测资质,检测设备齐全,数据科学可靠,7-15个工作日便可出具溅射靶材检测报告。
溅射靶材检测内容

检测信息(部分)

溅射靶材是什么?主要用途有哪些?

溅射靶材是一种用于物理气相沉积(PVD)工艺的关键材料,通过离子轰击使其表面原子溅射并沉积在基材上形成薄膜。广泛应用于半导体、显示面板、太阳能电池、光学镀膜等领域。

溅射靶材检测包含哪些主要内容?

检测主要包括成分分析、纯度测定、密度测试、微观结构观察、表面粗糙度测量、机械性能评估等,以确保靶材满足特定工艺的性能要求。

第三方检测机构如何保证检测准确性?

通过ISO/IEC 17025认证实验室、高精度仪器校准、标准化操作流程及经验丰富的技术团队,确保检测结果可靠且符合国际标准。

检测项目(部分)

  • 元素含量分析:确定靶材中各元素的精确比例
  • 杂质浓度检测:控制材料纯度以避免性能干扰
  • 密度测试:影响溅射速率和薄膜均匀性
  • 晶粒尺寸分析:微观结构决定薄膜致密性
  • 硬度测试:评估靶材抗磨损能力
  • 表面粗糙度:影响薄膜附着力和均匀性
  • 氧含量测定:防止氧化导致的溅射效率下降
  • 热膨胀系数:衡量材料在温度变化下的稳定性
  • 导电率测试:关键于电子器件镀膜应用
  • 孔隙率检测:影响靶材使用寿命
  • 残余应力分析:避免靶材开裂或变形
  • 微观形貌观察:通过SEM分析表面及截面结构
  • 结晶取向检测:XRD分析晶体结构均匀性
  • 粘结强度测试:评估靶材与背板的结合力
  • 耐腐蚀性能:确保在特定环境下的稳定性
  • 溅射速率标定:优化镀膜工艺参数
  • 厚度均匀性:保证薄膜质量一致性
  • 元素分布图谱:EDS/WDS分析成分均匀性
  • 气体夹杂检测:防止溅射过程中的缺陷产生
  • 热导率测定:影响靶材散热性能

检测范围(部分)

  • 金属靶材(如铝、铜、钛)
  • 合金靶材(如镍铬、钴铁)
  • 陶瓷靶材(如氧化铝、氮化硅)
  • 半导体靶材(如硅、锗)
  • 贵金属靶材(如金、银、铂)
  • 磁性靶材(如铁钴镍合金)
  • 透明导电靶材(如ITO、AZO)
  • 高熔点金属靶材(如钨、钼)
  • 复合靶材(如铜铟镓硒)
  • 稀土元素靶材(如钕、镝)
  • 超硬靶材(如碳化钨)
  • 聚合物靶材(如聚酰亚胺)
  • 多层复合靶材
  • 纳米结构靶材
  • 旋转靶材
  • 平面靶材
  • 管状靶材
  • 异形定制靶材
  • 高纯靶材(纯度>99.999%)
  • 反应溅射靶材

检测仪器(部分)

  • 电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS)
  • X射线衍射仪(XRD)
  • 扫描电子显微镜(SEM)
  • 辉光放电质谱仪(GD-MS)
  • 原子吸收光谱仪(AAS)
  • 激光粒度分析仪
  • 三维表面轮廓仪
  • 万能材料试验机
  • 显微硬度计
  • 热膨胀系数测试仪

检测标准(部分)

《 YS/T 1357-2020 磁记录用铬钽钛合金溅射靶材 》标准简介

  • 标准名称:磁记录用铬钽钛合金溅射靶材
  • 标准号:YS/T 1357-2020
    中国标准分类号:H63
  • 发布日期:2020-12-09
    国际标准分类号:77.150.99
  • 实施日期:2021-04-01
    技术归口:
  • 代替标准:
    主管部门:工业和信息化部
  • 标准分类:制造业有色金属冶金有色金属产品其他有色金属产品
  • 内容简介:

    行业标准《磁记录用铬钽钛合金溅射靶材》,主管部门为工业和信息化部。本标准适用于6英寸~8英寸垂直磁记录硬盘、磁盘用铬钽钛合金靶材。

《 YS/T 1358-2020 磁记录用铁钴钽合金溅射靶材 》标准简介

  • 标准名称:磁记录用铁钴钽合金溅射靶材
  • 标准号:YS/T 1358-2020
    中国标准分类号:H63
  • 发布日期:2020-12-09
    国际标准分类号:77.150.99
  • 实施日期:2021-04-01
    技术归口:
  • 代替标准:
    主管部门:工业和信息化部
  • 标准分类:制造业冶金有色金属产品有色金属其他有色金属产品
  • 内容简介:

    行业标准《磁记录用铁钴钽合金溅射靶材》,主管部门为工业和信息化部。本标准适用于6英寸~8英寸垂直磁记录硬盘、磁盘用铁钴钽合金靶材。

《 YS/T 1025-2015 电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材 》标准简介

  • 标准名称:电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材
  • 标准号:YS/T 1025-2015
    中国标准分类号:H63
  • 发布日期:2015-04-30
    国际标准分类号:77.150.99
  • 实施日期:2015-10-01
    技术归口:全国有色金属标准化技术委员会
  • 代替标准:
    主管部门:工业和信息化部
  • 标准分类:制造业冶金有色金属产品有色金属其他有色金属产品
  • 内容简介:

    行业标准《电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材》由全国有色金属标准化技术委员会归口上报,主管部门为工业和信息化部。本标准适用于电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材,以下简称高纯钨及钨合金靶。

《 YS/T 893-2013 电子薄膜用高纯钛溅射靶材 》标准简介

  • 标准名称:电子薄膜用高纯钛溅射靶材
  • 标准号:YS/T 893-2013
    中国标准分类号:H64
  • 发布日期:2013-10-17
    国际标准分类号:77.150.50
  • 实施日期:2014-03-01
    技术归口:全国有色金属标准化技术委员会
  • 代替标准:
    主管部门:工业和信息化部
  • 标准分类:冶金有色金属产品有色金属钛产品
  • 内容简介:

    行业标准《电子薄膜用高纯钛溅射靶材》由全国有色金属标准化技术委员会归口上报,主管部门为工业和信息化部。

《 YS/T 819-2012 电子薄膜用高纯铜溅射靶材 》标准简介

  • 标准名称:电子薄膜用高纯铜溅射靶材
  • 标准号:YS/T 819-2012
    中国标准分类号:H62
  • 发布日期:2012-11-07
    国际标准分类号:71.150.30
  • 实施日期:2013-03-01
    技术归口:全国有色金属标准化中心
  • 代替标准:
    主管部门:工业和信息化部
  • 标准分类:化工技术有色金属
  • 内容简介:

    行业标准《电子薄膜用高纯铜溅射靶材》由全国有色金属标准化中心归口上报,主管部门为工业和信息化部。

《 YS/T 837-2012 溅射靶材-背板结合质量超声波检验方法 》标准简介

  • 标准名称:溅射靶材-背板结合质量超声波检验方法
  • 标准号:YS/T 837-2012
    中国标准分类号:H68
  • 发布日期:2012-11-07
    国际标准分类号:77.120.99
  • 实施日期:2013-03-01
    技术归口:全国有色金属标准化中心
  • 代替标准:
    主管部门:工业和信息化部
  • 标准分类:冶金有色金属其他有色金属及其合金
  • 内容简介:

    行业标准《溅射靶材-背板结合质量超声波检验方法》由全国有色金属标准化中心归口上报,主管部门为工业和信息化部。

《 YS/T 719-2009 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶 》标准简介

  • 标准名称:平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶
  • 标准号:YS/T 719-2009
    中国标准分类号:H63
  • 发布日期:2009-12-04
    国际标准分类号:77.150.99
  • 实施日期:2010-06-01
    技术归口:全国有色金属标准化技术委员会
  • 代替标准:
    主管部门:工业和信息化部
  • 标准分类:冶金有色金属产品有色金属其他有色金属产品
  • 内容简介:

    行业标准《平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶》由全国有色金属标准化技术委员会归口上报,主管部门为工业和信息化部。

《 YS/T 718-2009 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用铌靶 》标准简介

  • 标准名称:平面磁控溅射靶材 光学薄膜用铌靶
  • 标准号:YS/T 718-2009
    中国标准分类号:H63
  • 发布日期:2009-12-04
    国际标准分类号:77.150.99
  • 实施日期:2010-06-01
    技术归口:全国有色金属标准化技术委员会
  • 代替标准:
    主管部门:工业和信息化部
  • 标准分类:冶金有色金属产品有色金属其他有色金属产品
  • 内容简介:

    行业标准《平面磁控溅射靶材 光学薄膜用铌靶》由全国有色金属标准化技术委员会归口上报,主管部门为工业和信息化部。

《 T/ZZB 0639-2018 氧化锌铝磁控溅射靶材 》标准简介

  • 标准名称:氧化锌铝磁控溅射靶材
  • 标准号:T/ZZB 0639-2018
    中国标准分类号:H72/C305
  • 发布日期:2018-10-19
    国际标准分类号:81.060.30
  • 实施日期:2018-11-01
    团体名称:浙江省品牌建设联合会
  • 标准分类:高级陶瓷玻璃制品制造
  • 内容简介:

    本标准规定了氧化锌铝磁控溅射靶材的术语和定义、基本要求、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存、质量承诺等。本标准适用于粉末冶金生产的用于磁控溅射沉积节能Low-E玻璃的功能介质层以及薄膜太阳能电池透明电极层等膜层的氧化锌铝磁控溅射靶材。

《 GB/T 29658-2013 电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材 》标准简介

  • 标准名称:电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材
  • 标准号:GB/T 29658-2013
    中国标准分类号:H61
  • 发布日期:2013-09-06
    国际标准分类号:77.120.10
  • 实施日期:2014-05-01
    技术归口:全国有色金属标准化技术委员会
  • 代替标准:
    主管部门:中国有色金属工业协会
  • 标准分类:冶金有色金属铝和铝合金
  • 内容简介:

    国家标准《电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材》由TC243(全国有色金属标准化技术委员会)归口上报,TC243SC1(全国有色金属标准化技术委员会轻金属分会)执行,主管部门为中国有色金属工业协会。

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溅射靶材检测

检测优势

检测资质(部分)

荣誉 荣誉 荣誉 荣誉

检测实验室(部分)

检测实验室 检测实验室 检测实验室

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合作客户(部分)

客户 客户 客户 客户 客户

检测报告作用

1、可以帮助生产商识别产品的潜在问题或缺陷,并及时改进生产工艺,保障产品的品质和安全性。

2、可以为生产商提供科学的数据,证明其产品符合国际、国家和地区相关标准和规定,从而增强产品的市场竞争力。

3、可以评估产品的质量和安全性,确保产品能够达到预期效果,同时减少潜在的健康和安全风险。

4、可以帮助生产商构建品牌形象,提高品牌信誉度,并促进产品的销售和市场推广。

5、可以确定性能和特性以及元素,例如力学性能、化学性质、物理性能、热学性能等,从而为产品设计、制造和使用提供参考。

6、可以评估产品是否含有有毒有害成分,以及是否符合环保要求,从而保障产品的安全性。

检测流程

1、中析研究所接受客户委托,为客户提供检测服务

2、客户可选择寄送样品或由我们的工程师进行采样,以确保样品的准确性和可靠性。

3、我们的工程师会对样品进行初步评估,并提供报价,以便客户了解检测成本。

4、双方将就检测项目进行详细沟通,并签署保密协议,以保证客户信息的保密性。在此基础上,我们将进行测试试验.

5、在检测过程中,我们将与客户进行密切沟通,以便随时调整测试方案,确保测试进度。

6、试验测试通常在7-15个工作日内完成,具体时间根据样品的类型和数量而定。

7、出具检测样品报告,以便客户了解测试结果和检测数据,为客户提供有力的支持和帮助。

以上为溅射靶材检测的检测内容,如需更多内容以及服务请联系在线工程师。

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