高纯锑检测_检测机构_检测报告_中析研究所「检测中心」

检测信息

高纯锑检测是一种针对高纯度锑材料中主成分含量、痕量杂质元素及物理性能进行定量分析的技术服务，主要应用于半导体制造、合金配料、化工催化和光纤通信等领域。

检测目的在于准确评定锑材料的纯度等级（如5N、6N、7N），识别砷、铅、铜、铁等关键杂质元素的含量水平，技术手段以光谱法、质谱法和化学分析法为主。

检测流程涵盖样品前处理、仪器分析、数据校核和报告签发，核心参数包括锑主成分质量分数、各杂质元素浓度限值以及材料粒度分布等指标。

检测方法

电感耦合等离子体质谱法（ICP-MS）：用于ppb级痕量杂质元素定量分析
电感耦合等离子体发射光谱法（ICP-OES）：测定主成分和微量元素含量
原子吸收光谱法（AAS）：检测特定金属杂质元素浓度
X射线荧光光谱法（XRF）：快速筛查材料整体成分
辉光放电质谱法（GDMS）：直接对固体样品进行深度杂质分析
化学滴定法：测定主成分锑的质量分数
分光光度法：检测硫、硒等非金属元素含量
扫描电子显微镜法（SEM）：观察材料表面形貌和缺陷
激光粒度分析法：测定粉末状样品粒度分布
X射线衍射法（XRD）：分析材料晶体结构和相组成

检测范围

5N高纯锑锭（99.999%）
6N高纯锑锭（99.9999%）
7N高纯锑锭（99.99999%）
半导体用高纯锑
合金制造用高纯锑
高纯锑粉
高纯锑粒
高纯锑块
高纯锑棒
高纯三氧化二锑
高纯三硫化二锑
高纯锑化铟
高纯锑化镓
高纯锑化铝
电子级高纯锑
光纤掺杂用高纯锑
蓄电池板栅用高纯锑
催化剂用高纯锑
真空镀膜用高纯锑
红外光学材料用高纯锑
热电材料用高纯锑

检测标准（部分）

GB/T 26289-2010 高纯硒化学分析方法硼、铝、铁、锌、砷、银、锡、锑、碲、汞、镁、钛、镍、铜、镓、镉、铟、铅、铋量的测定电感耦合等离子体质谱法
YS/T 1287-2018 高纯镉化学分析方法镁、铝、钙、铬、铁、镍、铜、锌、银、锡、锑、铅、铋量的测定电感耦合等离子体质谱法
YS/T 1086-2015 高纯锑化学分析方法　镁、锰、铁、镍、铜、锌、砷、硒、银、镉、金、铅、铋量的测定　电感耦合等离子体质谱法
YS/T 229.1-2025 高纯铅化学分析方法第 1 部分：银、镉、锰、铜、铋、铝、镍、锡、镁、锌、砷、锑和铁含量的测定电感耦合等离子体质谱法
YS/T 35-2012 高纯锑化学分析方法　镁、锌、镍、铜、银、镉、铁、硫、砷、金、锰、铅、铋、硅、硒含量的测定　高质量分辨率辉光放电质谱法
YS/T 902-2013 高纯铼及铼酸铵化学分析方法　铍、钠、镁、铝、钾、钙、钛、铬、锰、铁、钴、镍、铜、锌、砷、钼、镉、铟、锡、锑、钡、钨、铂、铊、铅、铋量的测定　电感耦合等离子体质谱法
YS/T 35.2-1992 高纯锑化学分析方法化学光谱法测定锌,银,铜,镉,镍,铅,镁,金,铁和锰量
GB/T 16477.2-2026 稀土硅铁合金及镁硅铁合金化学分析方法第2部分：钙、镁、锰、铝、钡、锑、铋、锶、磷和钛含量的测定
KS M 8336(2023 Confirm)(2023) 과염소산마그네슘 (시약)
KS M 8336-2005(2023) 과염소산마그네슘 (시약)
KS M 8336-2005(2018) 과염소산마그네슘 (시약)
YB 699-1980 铝.锑.镁-钢双金属板
GB/T 8647.10-2006 镍化学分析方法　砷、镉、铅、锌、锑、铋、锡、钴、铜、锰、镁、硅、铝、铁量的测定发射光谱法
GB/T 11066.7-2009 金化学分析方法银、铜、铁、铅、锑、铋、钯、镁、锡、镍、锰和铬量的测定火花原子发射光谱法
YS/T 330-1994 铝、锑、镁--钢双金属板
GB/T 8647.11-2019 镍化学分析方法第11部分:镁、铝、锰、钴、铜、锌、镉、锡、锑、铅、铋含量的测定电感耦合等离子体质谱法
GB/T 11066.11-2021 金化学分析方法第11部分：镁、铬、锰、铁、镍、铜、钯、银、锡、锑、铅和铋含量的测定电感耦合等离子体质谱法
SN/T 5054-2018 锑精矿中锌、镉、铅、锰、铁、镁、钙和铜含量的测定电感耦合等离子体发射光谱法
GB/T 23834.7-2026 硫酸亚锡化学分析方法第7部分：铜、铅、砷、铁、锑、钾、钠、钙、镁含量的测定电感耦合等离子体发射光谱法（ICP-OES）
SJ/T 11011-2015 电子器件用纯银纤料中杂质含量铅、铋、锌、镉、铁、镁、铝、锡、锑、磷的ICP-AES测定方法