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GB/T 41153-2021 碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定 二次离子质谱法

《GB/T 41153-2021 碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定 二次离子质谱法》本文件规定了碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的二次离子质谱测试方法。适用于碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的定量分析,测定范围为硼含量不小于5×10ˇ13 cmˇ-3、铝含量不小于5×10ˇ13 cmˇ-3、氮含量不小于5×10ˇ15 cmˇ-3,元素浓度(原子个数百分比)不大于1%。

发布时间:2022-04-26 10:24:51 所属栏目:检测标准 检测报告出具一般为7~15个工作日,支持加急
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标准简介

标准号:GB/T 41153-2021

中国标准分类号:H17

标准发布日期:2021-12-31

国际标准分类号:77.040

实施日期:2022-07-01

标准分类:冶金金属材料试验

标准详情

国家标准《碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定 二次离子质谱法》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口上报,TC203SC2(全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会)执行,主管部门为国家标准化管理委员会。

本文件规定了碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的二次离子质谱测试方法。

本文件适用于碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的定量分析,测定范围为硼含量不小于5×10ˇ13 cmˇ-3、铝含量不小于5×10ˇ13 cmˇ-3、氮含量不小于5×10ˇ15 cmˇ-3,元素浓度(原子个数百分比)不大于1%。

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Advantages

检测优势

多所检测实验室

研究所拥有多个检测实验室,提供多样化检测服务。

提供一对一服务

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覆盖国内多个城市

多个检测实验室分支,提供上门检测或寄样检测服务。

检测报告多方认可

检测数据科学严谨,主要服务政府单位、高校以及企业。

Qualifications

资质与认可

旗下实验室拥有 CMA、CNAS、ISO 等认证资质,并持有高新技术企业证书,检测报告规范严谨、数据可溯源。

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